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发布时间:2019年08月02日 10:31 浏览量:
专利转让公示
日期:2019-8-2
根据《中华人民共和国促进科技成果转化法》等国家法律法规,现将如下科技成果(专利权)转让进行公示。公示期15天,自2019年8月2日至2019年8月17日。如有任何异议,请于公示期内向研究院实名反映。
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专利号:ZL201610557981.9
发明名称:LED漫反射反光杯及加工方法
专利简介:本发明属于LED照明设备技术领域,具体公开了一种LED漫反射反光杯及加工方法。包括金属材质的反光杯本体,所述反光杯本体的内部为圆台形的中空腔,所述反光杯本体的内表面设有激光加工的纳米反光层,所述中空腔内填充满透明的硅胶树脂。上述LED漫反射反光杯的加工方法包括准备、预处理、装夹、通气、激光加工、退火、填充七个步骤,其中激光加工步骤中,使用激光在反光杯本体的内表面加工出一层纳米微结构的纳米反光层,使得纳米反光层均匀性和纳米尺寸良好,使本反光杯内表面形成漫反射层,有效提升LED芯片出光的光通量和出光率。填充步骤中向反光杯本体的中空腔内填充的硅胶树脂,可使反光杯使用时进一步改善炫光现象。
专利权人:温州大学激光与光电智能制造研究院
专利授权日:2018.5.18
专利号:ZL201710088946.1
发明名称:一种基于激光冲击波的薄膜元件光学性能后处理方法
专利简介:本发明提供了一种基于激光冲击波的薄膜元件光学性能后处理方法,以未进行激光冲击波后处理时升温过程中薄膜元件透过率的变化特性T0的为基准,分别获得E0、Em和ΔE对S次激光冲击波处理后样品升温过程中薄膜元件透过率的变化特性TS的影响规律;根据TS的提升情况,对初始激光能量E0、能量递增梯度ΔE和最大激光能量Em进行优化,当薄膜元件透过率的变化特性曲线随温度的改变不再发生变化,且对应波长的透过率或反射率满足被测样品的要求时,停止循环,完成薄膜元件光学性能后处理。本发明实现了对高功率光学薄膜元件光学性能尤其是稳定性的改善,结合实时在线调整后处理工艺参数,解决了低堆积密度薄膜的光学性能易受环境影响的难题。
专利权人:温州大学激光与光电智能制造研究院
专利授权日:2018.7.6
专利号:ZL201710092401.8
发明名称:一种基于激光冲击波提高光学元件力学性能的后处理方法
专利简介:本发明提供了一种基于激光冲击波的薄膜元件力学性能后处理方法,以未进行激光冲击波后处理时薄膜元件的力学特性R0、A0、B0、H0和抗激光损伤能力F0、G0为基准,分别获得E0、Em和ΔE对S次激光冲击波处理后样品力学性能RS、AS、BS、HS和抗激光损伤能力FS、GS的影响规律;根据力学性能和抗激光损伤能力的提升情况,对初始激光能量E0、能量递增梯度ΔE和最大激光能量Em进行优化,当薄膜元件力学性能和抗激光损伤能力不再提升,且满足实验样品的要求时,停止循环,完成薄膜元件力学性能后处理。本发明实现了对高功率光学薄膜元件力学性能的改善,解决了光学薄膜元件附着力、膜层结合力、残余应力等力学性能目前缺乏有效手段控制的难题。
专利权人:温州大学激光与光电智能制造研究院
专利授权日:2018.5.29
受让方:温州天琴激光科技有限公司
转让/许可方式:专利权转让
拟交易价格及价格形成过程:经双方协商,转让价格拟定为贰万元。